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HRPN系列射频等离子体纳米粉生产线/球化处理设备

 

RF plasma Nano powder production line

 

 

 

 

一、   设备用途及特点

 

1、采用射频感应等离子体生产各类纳米粉末:金属,合金,陶瓷;

 

2、钨钼铌钽等难熔纯金属纳米粉制备,平均粒径20-75纳米;

 

3、氧化物、碳化物、氮化物等难熔金属化合物纳米粉制备,平均粒径20-100纳米;

 

4、纯金属、合金、金属间化合物及陶瓷等粉体材料的球化及净化处理

 

5、可以使用各种原材料:固体(微米粉末),液体,悬浮液和气体

 

6、通过使用不同的等离子体气体(氩气,氧气,氨气,氢气,氦气,空气,甲烷等)可以精确的控制纳米粉末的化学组成。

 

7、设备主要由“真空获得测量及充气系统”, 射频感应等离子体发生系统纳米化处理系统探针送粉系统粉末收集系统供气系统电控系统防爆系统 工作台架,水冷循环系统及附件等组成。

 

二、设备主要技术指标

 

1粉体处理量:10-200G/Min

 

2、极限真空度:6。67×10-1Pa 采用旋片泵+罗茨泵系统

 

3、系统泄漏率: 1×10-6PaL/S

 

4、射频电源:   15KW-200KW2-5MHz

 

5、总气体流量: 20-150L/min.Ar2

 

6、粉末收集采用三级收粉系统;

 

7、电气控制采用触摸屏+PLC控制,人机界面炉前操作;

 

8、反应收粉室内壁镜面抛光;采用双层水冷304不锈钢结构;

 

9、布袋收集室,收粉罐等材质均为:304不锈钢;

 

11、安全防护及报警:设有膜片式防爆装置及静电防护装置;断水及水压不足时自动切断感应熔炼电源,同时蜂鸣加故障灯闪光显示

三、设备主要规格:

 

技术指标

HRPN-15

HRPN-30

HRPN-60

HRPN-100

HRPN-150

HRPN-200

电源功率

15KW

30KW

60KW

100KW

150KW

200KW

频率

3-5Mhz

3-5Mhz

2-4Mz

2-4Mz

2-3Mhz

2-3Mhz

电子管寿命

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

3000Hr

送粉量

Ti计)

10G/Min

20G/Min

75G/Min

100G/Min

150G/Min

200G/Min

炬径

20mm

30mm

50mm

70mm

80mm

90mm

日产量

30个样品

30个样品

30Kg

50Kg

70Kg

90kg

设备空间

3mX2mX2m

3mX2mX2m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

5mX5mX4m

 

 

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